輝光離子滲氮爐是利用直流電場使真空容器中的含氮稀薄氣體離子化的研究，在金屬件表面形成氮化層，以實(shí)現(xiàn)表面硬化的設(shè)備。今天，小編就為大家介紹輝光離子滲氮爐的操作流程和工藝規(guī)范要求，大家來看看吧！
      滲氮層數(shù)隨時(shí)間的延長增厚，初期增長較快，以后逐漸減慢，一般滲速在0.01 mm/h左右。
      隨著保溫時(shí)間的延長，氮化物聚集長大，硬度降低。氣溫愈高，時(shí)間愈長愈大。
      合壓(工作電壓電阻器零點(diǎn))通冷卻循環(huán)水。該電阻擋位是一個(gè)弧形擋位。電弧擋位阻值增加很大，根據(jù)電流大小，當(dāng)電阻值較小時(shí)，根據(jù)電流大小而定?；⌒螕跷坏碾娏饕话闶穷~定電壓的五分之一上下。
      緩慢調(diào)整電阻器至須部位，直至爐內(nèi)起輝爐內(nèi)鋼件清打弧工作。無法使?fàn)t內(nèi)的電弧強(qiáng)烈。
      揮發(fā)性物質(zhì)在百分之20到百分之40時(shí)氮原子增多，在零件表面可以被大量吸收。
      當(dāng)揮發(fā)率超過百分之60時(shí)，氫氣含量高達(dá)百分之52，就會(huì)產(chǎn)生脫氮作用，這一階段不僅氮原子數(shù)量減少，而且大量的氫分子和氮分子在零件表面附近停滯，使氮原子不易被表面吸收，從而使零件表面含氮量降低，滲氮層深也減薄。加熱爐、氮化罐及整個(gè)氮化系統(tǒng)應(yīng)對(duì)前處理爐、氮化罐及整個(gè)氮化系統(tǒng)的進(jìn)氣口進(jìn)行密性檢測(cè)，確保氨氣不泄漏及管路暢通。